第204章 说实话，我对贵公司的研发能力是存疑的-第2/3页

        那真的已经是人类智慧的极限了。

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        且不提外面互联网上的纷纷扰扰，华国光科技产业联盟成立以后，下午就开始了交流探讨。

        每一家会员企业都有权利和机会上台做汇报，宣传自己目前的研究成果，就相关问题困难坦诚交流，为推进光刻机产业进行深入探讨。

        今天下午首先在台上汇报的便是魔都微电子的贺明。

        “各位领导、企业家朋友们，我是魔都微电子董事长兼ceo的贺明，首先非常感谢大家的信任，将我选为联盟主席团副主席，在此，我郑重承诺，全力支持和配合光刻机产业联盟事业，力争在最短的时间内实现28nm工艺的ic前道制造光刻机的成功研发。”

        随后，贺明在ppt汇报中，就企业目前研发的产品进行了宣传。

        包括刚研发成功的90nm分辨率的前道制造光刻机，采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术。

        目前，国内仅有一间fab企业采用这么一款。

        据说也是不是特别成熟，良品率对比阿斯麦耳的二手老旧光刻机都比不了。

        此外，还有封装光刻机，可达到40/50nm的制程，研发成功之后，迫使国外相关类型的光刻机降价了1/3以上。

        而后，在问题方面，贺明哭起了穷。

        “……研发先进制程的前道光刻机一直是我们公司的努力方向，但目前来说，由于研发成本极高，28nm工艺的浸没式光刻机整机需要的重要部件仍然未研发出来，影响了我们的下一步的整机研发……”

        ……

        在汇报之后，便是直接的讨论和提问。

        “请问贺总，贵公司的28nm前道制造光刻机是否已经立项，预计需要多少资金研发？”

        贺明拿着话筒回道，“目前已经立项，预计需要研发资金100亿以上，而且需要看各重要部件供应商的产品研发情况。”

        但下一个企业代表的发言就有些犀利了。

        “贺总，我说实话，我对贵公司的研发能力是存疑的。90nm分辨率的前道制程光刻机，问题也是颇多。如何让我们相信你，一定可以研发出来新型的光刻机呢？”

        直击问题，非常尖锐。

        就是台上的贺明脸色都不好了。

        江成本有些昏昏欲睡，但听到这话，和大伙一样都不困了，看着提问的人。

        却是一向以耿直著称的华兴微老总王云飞。

        贺明顿了顿，道，“任何企业的产品，倘若只停留在了研发，而没有生产产商使用，那都无法解决实际生产中遇上的问题，更不提持续研发改进。相信联盟的成立，一定能够聚起合力，共同推进更高制程光刻机研发步伐。”...
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