第142章 尼康或ASML-第2/2页

“大体统计出来了，只是还没有最后的确认……亚微米的话，就按0.8μm制程的话，最起码需要1-2台相匹配的可以制造0.8μm芯片的光刻机。”

光刻机是伴随着共和国集成电路制造一路的痛！现在是，三十年后依旧是！

在光刻机领域市场占有率方面，此时恰恰和29年后的形势完全相反：日本双雄尼康和佳能完全处于大佬级垄断地位，占据了80%以上的市场，而此时的asml还只是弟弟大约只有10%的市场占有率。

而早期在1978年，推出第一台真正现代意义的自动化步进式光刻机(stepper)的美国gca公司已经接近破产的存在！

70年代初，光刻机技术更多集中在如何保证十个甚至更多个掩膜版精准地套刻在一起。而拿到美国军方投资的perkin elmer公司率先推出了投影式光刻系统，搭配正性光刻胶非常好用而且良率颇高，因此迅速占领了市场。

只是因为掩膜和光刻胶多次碰到一起太容易污染，导致没过多久接触式机台后来被接近式机台所淘汰。

在1978年，美国gca公司推出真正现代意义的自动化步进式光刻机(stepper)，分辨率比投影式高5倍达到1微米。虽然由于刚开始stepper生产效率相对较低，perkin elmer在后面很长一段时间仍处于主导地位。

但是进入80年代，在尼康发售了拥有更先进的光学系统可以极大提高产能的首台商用stepper nsr-1010g之后，stepper和perkin elmer两家美国厂商光刻机就一起被严重挤压，从80年初超过3成快速跌到84年不到5%。

这时候，由荷兰asm international和飞利浦50:50合资设立的asml公司，才于1984年4月1日成立，员工更是只有31名，就在荷兰飞利浦大厦外面的木板简易房里办公，属于可有可无的角色。

期起初只是靠着飞利浦大树苟活的asml，在头一年只卖出一台自己研发的stepper光刻机，第二年卖出四台……但是背靠飞利浦大树的各种资源和容忍，恁是让它生存了下来，进而推出了pas-2500步进式光刻机。这些，仅仅是让asml建立了一点点名气。

至于asml比较成功的、更为先进的pas5500步进式要等到明年才会推出……

而此时，美国光刻机公司svg、ultratech等，在有日本各大财团支持的半导体企业的资助下大放光彩的尼康和佳能更先进技术的打压下，已经被彻底边缘化，处于破产被收买的边缘……

所以余子贤在要买先进的光刻机面前，只有三个选择：是找尼康和佳能，还是处于弟弟的asml。

                  


    本章完